膜厚測量儀的原理是什么?
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  • 膜厚測量儀的原理主要基于光學(xué)干涉現(xiàn)象和電磁學(xué)原理。當(dāng)一束光波或電磁信號(hào)照射到材料表面時(shí),一部分光或信號(hào)會(huì)被反射,另一部分會(huì)透射。在薄膜表面和底部之間,這些光波或電磁信號(hào)會(huì)經(jīng)歷多次反射和透射,形成干涉現(xiàn)象。在光學(xué)原理的膜厚測量儀中,干涉現(xiàn)象是關(guān)鍵。通過測量反射和透射光波的相位差,可以計(jì)算出薄膜的厚度。這種技術(shù)通常采用反射法或透射法。反射法是通過測量反射光波的相位差來計(jì)算薄膜厚度,而透射法則是通過測量透射光波的相位差來實(shí)現(xiàn)。另外,還有一些膜厚測量儀采用電磁學(xué)原理,如磁感應(yīng)和電渦流原理。磁感應(yīng)測量儀利用測頭經(jīng)過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通大小來測定覆層厚度。電渦流測量儀則是通過高頻交流信號(hào)在測頭線圈中產(chǎn)生電磁場,當(dāng)測頭靠近導(dǎo)體時(shí),形成渦流,渦流的大小與測頭與導(dǎo)電基體之間的距離有關(guān),從而可以測量非導(dǎo)電覆層的厚度。這些原理使得膜厚測量儀能夠準(zhǔn)確、快速地測量各種薄膜的厚度。不同類型的膜厚測量儀適用于不同的材料和薄膜,用戶可以根據(jù)具體需求選擇適合的測量儀。此外,膜厚測量儀還可以用于分析薄膜的光學(xué)性質(zhì)和其他物理特性,為材料科學(xué)研究和工業(yè)生產(chǎn)提供重要數(shù)據(jù)。

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