山東亞世特-日照手動(dòng)單工位旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)

轉(zhuǎn)動(dòng)自噴清洗機(jī)介紹1.機(jī)器設(shè)備特性1.1本機(jī)器設(shè)備依據(jù)待洗零件類型多，總數(shù)少的特性，選用單工位式清洗、烘干的方法；1.2零件經(jīng)人力手推式進(jìn)到清洗室，布局在清洗腔房間內(nèi)的自噴管對產(chǎn)品工件作大流量自噴，日照手動(dòng)單工位旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)，遮蓋無盲點(diǎn)；1.3清洗選用持續(xù)噴洗式，清洗沖洗力強(qiáng)悍。此方式適用去除空氣氧化膜或有機(jī)物。由于化合物在單晶硅片表面滯留的時(shí)間較為短，對反映必須一定時(shí)間的清洗實(shí)際效果不太好。在噴洗全過程中所應(yīng)用的化學(xué)藥品非常少，對操縱成本費(fèi)及生態(tài)環(huán)境保護(hù)有益。伴隨著集成電路芯片工藝加工工藝連接點(diǎn)愈來愈，對具體生產(chǎn)制造的好多個(gè)階段也明確提出了新規(guī)定，清洗階段的必要性日漸突顯。清洗的至關(guān)重要?jiǎng)t是因?yàn)榘殡S著特點(diǎn)規(guī)格的持續(xù)變小，半導(dǎo)體材料對雜質(zhì)成分愈來愈比較敏感，而半導(dǎo)體設(shè)備中難以避免會(huì)導(dǎo)入一些顆粒、有機(jī)物、金屬材料和金屬氧化物等空氣污染物。為了更好地降低雜質(zhì)對處理芯片合格率的危害，具體生產(chǎn)制造中不僅必須提升 一次的清洗，還必須在基本上所有制性質(zhì)程前后左右都經(jīng)常的開展清洗，清洗流程約占總體流程的33%。

單工位旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)

零件產(chǎn)品使用后，在零件產(chǎn)品的表面會(huì)有油脂、污垢、松香、拋光蠟等雜質(zhì)，手動(dòng)單工位旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)定做，因此需要清洗機(jī)對這些零件產(chǎn)品進(jìn)行清洗。零件產(chǎn)品包括各種各樣的材質(zhì)、形狀和清洗環(huán)境，如電子零件及線路板上要清洗的是松香，精密機(jī)械零件上要清洗的是油脂、表帶表殼上要清洗的是污垢、金屬制品上要清洗的是拋光蠟等等，需要針對性的選擇不同清洗機(jī)對大批量、多品種的零件進(jìn)行清洗，選擇合適的清洗機(jī)對零件產(chǎn)品的清洗具有非常重要的作用。

技術(shù)特征：

1.單工位旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)，包括主體、主體中間的固定機(jī)構(gòu)和主體底端的拆卸機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述固定機(jī)構(gòu)包括固定柱(13)，所述主體的頂端設(shè)置有頂殼(1)，所述頂殼(1)的中間設(shè)置有操作門(7)，手動(dòng)單工位旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)哪家好，所述固定柱(13)位于操作門(7)的內(nèi)側(cè)兩端，所述操作門(7)的一側(cè)對應(yīng)于固定柱(13)的位置處設(shè)置有連接螺栓(14)，所述連接螺栓(14)的一側(cè)中間對應(yīng)于固定柱(13)的內(nèi)部設(shè)置有齒輪(15)，所述頂殼(1)的內(nèi)部兩側(cè)對應(yīng)于固定柱(13)的位置處設(shè)置有固定桿(3)，所述固定柱(13)的內(nèi)部兩側(cè)對應(yīng)于齒輪(15)的位置處設(shè)置有齒槽(16)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單工位旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)，其特征在于：所述拆卸機(jī)構(gòu)包括限位板(21)，所述主體的底端中間設(shè)置有底座(6)，所述限位板(21)位于底座(6)的中間表面，所述底座(6)的一側(cè)中間設(shè)置有連接座(20)，手動(dòng)單工位旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)定制，所述限位板(21)的一側(cè)中間設(shè)置有限位螺栓(22)，所述底座(6)的內(nèi)部一側(cè)對應(yīng)于限位螺栓(22)的位置處開設(shè)有螺紋孔(17)，所述底座(6)的兩側(cè)對應(yīng)于限位板(21)的位置處設(shè)置有限位滑槽(18)，所述限位滑槽(18)的一側(cè)對應(yīng)于底座(6)的位置處設(shè)置有帽檐(19)。

單工位旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)，其特征在于：所述限位滑槽(18)的橫截面為矩形，且限位滑槽(18)的寬度與限位板(21)的寬度一致。