真空蒸鍍?cè)?/p>
將被鍍薄膜基材(筒狀〕裝在真空蒸鍍機(jī)中,用真空泵抽真空,使鍍膜中的真空度達(dá)到1.3×10-2~1.3×10-3Pa,加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃~1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動(dòng)速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度,一般鍍鋁層厚度在25~500nm,鍍鋁薄膜的寬度為800mm~2000mm。
蒸鍍方法:在基材表面蒸鍍鋁的方法有直接蒸鍍法和轉(zhuǎn)移法兩種。
(1)直接蒸鍍法。是被鎮(zhèn)基材直接通過真空鍍膜機(jī),鐳射紙包裝價(jià)格,將金屬鋁蒸鍍?cè)诨谋砻娑纬慑冧X薄膜。直接蒸鍍法對(duì)基材的要求較高,尤其是要形成表面光亮的金屬膜,必須要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙,要采用直接蒸鍍法,在鍍鋁前需行表面涂布。另外,在蒸鍍過程中基材的揮發(fā)物要少。因此直接蒸鍍法對(duì)基材有較大的局限性,它主要適合于蒸鍍塑料薄膜,鐳射紙價(jià)格,也可用于紙張的蒸鍍,但紙張的質(zhì)量要求高,并對(duì)紙的定量有一定的限度。
(2)轉(zhuǎn)移法。是借助載體膜(真空鍍鋁膜)將金屬鋁層轉(zhuǎn)移到基材的表面而形成鍍鋁薄膜。轉(zhuǎn)移法是在直接蒸鍍法的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的新工藝,它克服了直接蒸鍍法對(duì)基材要求的局限性,尤其適合于在各種紙及紙板上進(jìn)行鍍鋁,也可用于塑料薄膜的鍍鋁。國(guó)外已將轉(zhuǎn)移法應(yīng)用到布、纖維、皮革等基材的鍍鋁產(chǎn)品上。我國(guó)主要采用轉(zhuǎn)移法生產(chǎn)鍍鋁紙。[2]
鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝流程:
基材放卷→抽真空→加熱蒸發(fā)舟→送鋁絲→蒸鍍→冷卻→測(cè)厚→展平→收卷
目前應(yīng)用多的鍍鋁薄膜主要有聚酯鍍鋁膜(VMPET)和CPP 鍍鋁膜(VMCPP)。薄膜表面鍍鋁的作用是遮光、防紫外線照射,既延長(zhǎng)了內(nèi)容物的保質(zhì)期,又提高了薄膜的亮度,從一定程度上代替了鋁箔,也具有價(jià)廉、美觀及較好的阻隔性能,因此,鍍鋁膜在復(fù)合包裝中的應(yīng)用十分廣泛,目前主要應(yīng)用于餅干等干燥、膨化食品包裝以及一些醫(yī)l藥、化妝品的外包裝上。
塑料薄膜的鍍鋁工藝一般采用直鍍法,即將鋁層直接鍍?cè)诨谋∧け砻妗U翦儠r(shí),將卷筒薄膜置放于真空室內(nèi),關(guān)閉真空室抽真空。當(dāng)真空度達(dá)到一定(4×10-4mba以上)時(shí),將蒸發(fā)舟升溫至1300℃~1400℃,然后再把純度為99.9%的鋁絲連續(xù)送至蒸發(fā)舟上。調(diào)節(jié)好放卷速度、收卷速度、送絲速度和蒸發(fā)量,開通冷卻源,使鋁絲在蒸發(fā)舟上連續(xù)地熔化、蒸發(fā),從而在移動(dòng)的薄膜表面冷卻后形成一層光亮的鋁層即為鍍鋁薄膜。
鍍鋁彩膜工藝流程
一般采用直鍍法,即將鋁層直接鍍?cè)诨谋∧け砻妗OPET、BOPA薄膜基材鍍鋁前不需進(jìn)行表面處理,可直接進(jìn)行蒸鍍。而BOPP和CPP、PE等非極性塑料薄膜,在蒸鍍前需對(duì)薄膜表面進(jìn)行電暈處理或涂布黏合層,使其表面張力達(dá)到38-42達(dá)因/厘米或具有良好的粘合性。蒸鍍時(shí),將卷筒薄膜置放于真空室內(nèi),鐳射紙,關(guān)閉真空室抽真空。當(dāng)真空度達(dá)到一定(4×10-4mba以上)時(shí),將蒸發(fā)舟升溫至1300℃~1400℃,然后再把
純度為99.9%的鋁絲連續(xù)送至蒸發(fā)舟上。調(diào)節(jié)好放卷速度、收卷速度、送絲速度和蒸發(fā)量,開通冷卻源,使鋁絲在蒸發(fā)舟上連續(xù)地熔化、蒸發(fā),從而在移動(dòng)的薄膜表面冷卻后形成一層光亮的鋁層即為鍍鋁薄膜。
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