什么是等離子拋光?
等離子即物質(zhì)的第四形態(tài),電漿拋光廠,是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象,等離子就是在高溫高壓下,拋光鹽水溶,在高溫高壓下,電子會脫離原子核而跑出來,原子核就形成了一個帶正電的離子,當(dāng)這些離子達到一定數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài),等離子態(tài)能量很大,當(dāng)這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r,對工件進行無死角拋光,頃刻間會使物體達到表面光亮的效果。
電漿拋光
工件在等離子拋光前必須除油,并用去污粉擦洗,中山電漿拋光,以免油污污染拋光槽液。
陰極與陽極面積比。陰極面積控制在陽極面積的1/2~1/3.5。在此情況下可以防止三價鉻的增長,電漿拋光加工廠家,過多的三價鉻在陽極表面被氧化成六價鉻。三價鉻含量過多,易使拋光液老化
等離子拋光加工技術(shù),作為金屬表面處理領(lǐng)域的一股革新力量,正著行業(yè)的新潮流。該技術(shù)利用高能等離子體束與工件表面相互作用產(chǎn)生的物理和化學(xué)效應(yīng),等離子電漿拋光,實現(xiàn)微米級至納米級的超精密平滑處理。相比傳統(tǒng)機械拋光或化學(xué)蝕刻方法,等離子拋光具有非接觸、無磨損工具消耗的優(yōu)勢,能夠顯著減少材料損失并提升加工精度和效率。它不僅能夠去除金屬表面的微小瑕疵及氧化層,還能在微觀尺度下調(diào)整表面粗糙度和結(jié)構(gòu)特性,增強材料的耐腐蝕性能和使用壽命。此外,該技術(shù)在環(huán)保方面也表現(xiàn)出色,減少了有害廢液排放和處理成本,符合綠色制造的發(fā)展趨勢。隨著航空航天、以及電子等領(lǐng)域?qū)α悴考砻婀饣群托阅芤蟮牟粩嗵嵘?,等離子拋光技術(shù)憑借其的優(yōu)勢逐漸成為這些行業(yè)的工藝之一。未來,隨技術(shù)的不斷成熟與應(yīng)用拓展,其將在更多領(lǐng)域內(nèi)展現(xiàn)出強大的生命力和廣闊的市場前景。
等離子拋光的三個主要優(yōu)點是成本更低,該過程更環(huán)保,并且具有該技術(shù)獨有的表面下?lián)p傷去除效果。等離子拋光晶圓與CMP晶圓比較而言,一直到二極管和MOSFET器件生成,完整的晶圓電氣性能和良率結(jié)果已經(jīng)與CMP相當(dāng)(圖1)。
等離子拋光劑不使用消耗性有毒漿料,因此避免了相關(guān)的處置問題和高用水量,消除這些工藝要求可以將運營成本降低多達85%。此外,該步驟上游的材料要求不需要改變,之后的工藝也看不到等離子拋光晶圓和CMP晶圓之間的差異。
電漿拋光
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