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負(fù)占空比對鈦合金微弧氧化膜層的影響

恒壓模式下,鋁合金微弧氧化現(xiàn)象,利用自制的多功能微弧氧化設(shè)備在Na2SiO3—Na3PO4—NaOH電解液體系中制備了鈦合金陶瓷膜,采用掃描電鏡、X射線衍射儀等考察了負(fù)占空比(dc)對鈦合金微弧氧化膜厚度、表面形貌、硬度、相組成及耐蝕性的影響。結(jié)果表明:隨著dc的增加,膜層厚度減?。荒颖砻娉实湫偷亩嗫滋沾山Y(jié)構(gòu),隨dc的增大,膜層表面微孔數(shù)量減少,鋁合金微弧氧化涂層,孔徑增大且有裂紋產(chǎn)生;膜層相組成主要為Ti、金紅石及銳鈦礦TiO2,在dc=45%時基體衍射峰消失。相對基體而言,膜層的硬度及耐蝕性都具有較大的提高;隨dc增加,膜層硬度增強(qiáng),鋁合金微弧氧化,耐蝕性有一定程度的減弱。

什么是微弧氧化技術(shù)?

微弧氧化技術(shù)是近幾年國內(nèi)外發(fā)展較快的一項高新技術(shù)。

該技術(shù)的基本原理及特點:微弧氧化或微等離子體表面陶瓷化技術(shù),是指在普通陽極氧化的基礎(chǔ)上,鋁合金微弧氧化設(shè)備,利用弧光放電增強(qiáng)并會在陽極上發(fā)生的反應(yīng)。

使工件表面的金屬與電解質(zhì)溶液相互作用,在工件表面形成微弧放電,在高溫、電場等因素的作用下,金屬表面形成陶瓷膜。(內(nèi)容僅供參考)

相比MoO3,加入鉬質(zhì)量濃度相同的Na2MoO4所得膜層耐蝕性更佳,在添加0.42g/L Na2MoO4時制得膜層其腐蝕電流密度比無添加劑時的低約7倍,比基體的低約1個數(shù)量級。故加入Na2MoO4的價比更高。

此外,這2種添加劑的加入,均可在AZ91D鎂合金表面制得淺棕色的膜層,起顯色作用的物質(zhì)是MoO2。

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