高純氬氣的制備方法
高純氬氣的制備方法主要包括深冷分餾法、合金吸氣法和催化脫氧分子篩脫水結合合金吸氣法。
深冷分餾法通過多級冷卻和分離技術,從空氣中提取高純氬氣,適用于大規(guī)模生產(chǎn)。
合金吸氣法利用吸氣劑吸收雜質,適用于高純度要求的深度凈化。
催化脫氧分子篩脫水結合合金吸氣法則需要進行初級凈化,再用吸氣劑深度凈化,適用于不同純度等級的氬氣制備。
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高純氬氣在哪些高科技領域有重要應用?
高純氬氣在諸多高科技領域發(fā)揮關鍵作用。
在半導體制造中,它是一種重要的保護氣體。在芯片制造的光刻、刻蝕等工藝過程中,高純氬氣能防止芯片材料與氧氣等發(fā)生反應,確保高精度加工。例如,在12英寸晶圓的制造過程中,氬氣可提供穩(wěn)定的加工環(huán)境。
在光纖制造領域,高純氬氣用于光纖拉絲過程。通過營造無氧環(huán)境,避免光纖材料氧化,提高光纖的質量和性能,保障光信號的快速傳輸。同時,在一些材料的真空鍍膜工藝中,高純氬氣作為載氣,幫助材料均勻地沉積在基底上,用于制造性能好的光學薄膜等。
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高純氬氣的特性
高純氬氣是一種無色、無味、無毒的惰性氣體,具有化學性質極不活潑的特點。其相對密度和液體密度均較高,沸點為-185.9℃,熔點為-189.2℃。
高純氬氣不易與其他物質發(fā)生化學反應,穩(wěn)定性好,因此被廣泛應用于需要惰性氣體保護的場合,如半導體生產(chǎn)、焊接、冶金等領域。同時,高純氬氣還具有高熱導率和低表面張力等物理特性。
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