綁定的適用范圍
?技術(shù)上來說表面平整可進行金屬化處理的靶材都可以用我司銦焊綁定技術(shù)綁定銅背靶來提高濺射過程的散熱性、提高靶材利用率。
建議綁定的靶材:
?ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及燒結(jié)靶材;
?錫、銦等軟金屬靶;
?靶材太薄、靶材太貴的情況等。
但下列情況綁定有弊端:
?1.熔點低的靶材,像銦、硒等,金屬化的時候可能會變軟變形;
?2.貴金屬靶材,一是實際重量易出現(xiàn)分歧,二是金屬化以及解綁的時候都會有浪費料,建議墊一片銅片。
半導電膠輥通常用在復印機、電子傳真裝置等辦公設備中。半導電膠輥屬于半導電元件,2N金靶材價格,且電阻值受環(huán)境影響較大,對產(chǎn)品的導電性要求極其嚴格,2N金靶材,因為打印的全過程是碳粉通過電場的壓力來實施,所以輕微的電性誤差將導致在打印過程中文字和圖片深淺不一的現(xiàn)象。因此需精密的量測,2N金靶材廠,故要求有一套高精密的量測系統(tǒng)來支持,方能達到產(chǎn)品的設計要求。
各種類型的濺射薄膜材料在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年代以來,濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展,2N金靶材報價,極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如,在半導體集成電路制造過程中,以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線:在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中,各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展,有的已經(jīng)用于電腦及計算機的顯示器制造;在信息存儲產(chǎn)業(yè)中,磁性存儲器的存儲容量不斷增加,新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求,需求數(shù)量也逐年增加。
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