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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
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磁控濺射靶材種類：金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，1N金靶材哪家好，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷濺射靶材，其他陶瓷靶材，哪里有1N金靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化銦靶材（InP），鉛靶材（PbAs），1N金靶材報價，銦靶材（InAs）。
根據(jù)電解質(zhì)的種類可分為氯化物熔鹽體系和氟化物-氧化物熔鹽體系電解法，多用于制取以鑭為主的混合稀土金屬以及鑭、鐠、釹等單一稀土金屬。熔鹽電解法為連續(xù)性生產(chǎn)過程，產(chǎn)量較大，設備簡單，陜西1N金靶材，成本較低，但電解槽需用耐高溫氯化物或氟化物腐蝕的結(jié)構(gòu)材料制造。
還原制得含稀土99%的稀土金屬經(jīng)真空精煉(包括真空蒸餾或升華)、電傳輸、區(qū)域熔煉、熔鹽電解精煉等方法處理除去非稀土雜質(zhì)后，可獲得純度超過99.9%的稀土金屬產(chǎn)品。
區(qū)域提純后的金屬鍺，其錠底表面上的電阻率為30～50歐姆 ?厘米時，純度相當于8～9，可以滿足電子器件的要求。但對于雜質(zhì)濃度小于[KG2]10原子/厘米[KG2]的探測器級超純鍺，則尚須經(jīng)過特殊處理。
由于鍺中有少數(shù)雜質(zhì)如磷、鋁、硅、硼的分配系數(shù)接近于1或大于1，要加強化學提純方法除去這些雜質(zhì)，然后再進行區(qū)熔提純。電子級純的區(qū)熔鍺錠用霍爾效應測量雜質(zhì)（載流子）濃度，一般可達10～10原子/厘米。經(jīng)切頭去尾，再利用多次拉晶和切割尾，一直達到所要求的純度（10原子/厘米），這樣純度的鍺（相當于13）所作的探測器，其分辨率已接近于理論數(shù)值。
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第9年
