半導電膠輥通常用在復印機、電子傳真裝置等辦公設備中。半導電膠輥屬于半導電元件,且電阻值受環(huán)境影響較大,對產(chǎn)品的導電性要求極其嚴格,因為打印的全過程是碳粉通過電場的壓力來實施,所以輕微的電性誤差將導致在打印過程中文字和圖片深淺不一的現(xiàn)象。因此需精密的量測,故要求有一套高精密的量測系統(tǒng)來支持,方能達到產(chǎn)品的設計要求。







鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應。

各種類型的濺射薄膜材料在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年代以來,濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展,黃山金圓柱靶,極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。
燒結(jié)法:?ITO靶材燒結(jié)制作法是在以銦錫氧化物共沉淀粉末或氧化銦和氧錫混合粉末為原料,加入粘結(jié)劑和分散劑混合后,壓力成型,脫脂,金圓柱靶廠家,然后于1400℃---1600℃燒結(jié)。燒結(jié)法設備投入少,金圓柱靶價格,成本低,產(chǎn)品密度高、缺氧率低,尺寸大、但制造過程中對粉末的選擇性很強。
ITO靶制備的透明導電薄膜廣泛應用于數(shù)碼相機、投影電視、數(shù)碼顯示的各種光學系統(tǒng)中,***需求量都很大。


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